DUV (deep ultraviolet)

Deep Ultraviolet (DUV) ist kurzwelliges UV-Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm oder 248 nm.

DUV-Licht mit diesen Wellenlängen wird in der optischen Lithografie für die Chipherstellung eingesetzt, weil damit feine Chipstrukturen erzeugt werden können. Noch feinere Chipstrukturen werden mit noch kürzeren Wellenlängen mit Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) erzeugt.

Deep Ultraviolet ist eine Hochgeschwindigkeits-Lithografietechnik, die sich für großflächige Masken von diskreten Komponenten eignet. Das für die DUV-Lithografie verwendete ultraviolette Licht hat Wellenlängen von 193 nm und 248 nm. Bei dieser Technik wird die Maske über ein optisches Linsensystem vergrößert und auf den Wafer projiziert wird. Eine Verbesserung der Auflösung kann durch das Einbringen von Wasser zwischen Linse und Wafer verbessert werden, da Wasser einen höheren Brechungsindex gegenüber Luft hat. Diese Technik nennt sich Immersionstechnik.

Informationen zum Artikel
Deutsch: DUV-Lithografie
Englisch: deep ultraviolet - DUV
Veröffentlicht: 21.03.2020
Wörter: 135
Tags: Licht
Links: Auflösung, Brechungsindex, Chipherstellung, EUVL (extreme ultraviolet lithography), Licht