low pressure CVD (package) (LPCVD)

Low Pressure Chemical Vapour Deposition (LPCVD) ist ein Beschichtungsverfahren, das im Gegensatz zu den anderen CVD-Verfahren, Chemical Vapour Deposition, mit Unterdruck arbeitet.

Das LPCVD-Verfahren wird zur Herstellung von dünnsten Siliziumschichten aus Siliziumnitrid oder Siliziumoxinitrid eingesetzt. Der Vorteil des LPCVD-Verfahrens liegt in der Dichte und der gleichmäßigen Verteilung der Beschichtung. Der LPCVD- Prozess wird bei einer Temperatur von 900 °C ausgeführt.

Informationen zum Artikel
Deutsch:
Englisch: low pressure CVD (package) - LPCVD
Veröffentlicht: 11.10.2013
Wörter: 61
Tags: Chip-Technologien
Links: Chemische Gasphasenabscheidung, Siliziumnitrid, Beschichtung, Prozess,
Übersetzung: EN
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