PCVD (plasma activated chemical vapor deposition)

In der Lichtwellenleitertechnik wird das PCVD-Verfahren, Plasma Activated Chemical Vapor Deposition, ein Verfahren mit chemischer Dampfabscheidung, als Herstellungsverfahren für Lichtwellenleiter mit Gradientenindex eingesetzt. Bei diesem Herstellungsverfahren werden durch ein plasmagestütztes Vakuum, das chemische Reaktionen verursacht, einzelne Schichten auf ein Glasrohr gedampft. Auf diese Art entsteht eine Glasfaser mit nahezu idealer Gradientencharakteristik. Weitere Herstellungsverfahren für Lichtwellenleiter sind Modified Chemical Vapor Deposition (MCVD) und Outside Vapor Deposition (OVD).

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Deutsch:
Englisch: plasma activated chemical vapor deposition - PCVD
Veröffentlicht: 23.11.2016
Wörter: 69
Tags: #Verkabelung
Links: Glasfaser, LwL (Lichtwellenleiter), MCVD (modified chemical vapor deposition), OVD (outside vapor deposition), Schicht