In der Halbleitertechnik werden die Dielektrika in zwei Gruppen eingeteilt, und zwar in solche deren Permittivität größer ist als die von Siliziumdioxid ( SiO2) und in eine zweite Gruppe deren Dielektrizitätskonstanten unter denen von Siliziumdioxid liegen.
Die erste Gruppe wird mit High-k-Dielektrika bezeichnet, die zweite mit Low-k-Dielektrika. Die Permittivität von Low-k-Dielektrika liegt unter dem Referenzwert für die Permittivität von Siliziumdioxid, die 3,9 beträgt. Ist die Permittivität kleiner als 2,4, spricht man von Ultra-Low-k. Low-k-Dielektrika werden in integrierten Schaltungen eingesetzt um die parasitären Kapazitäten zwischen den stromführenden Leiterbahnen durch eine niedrigere Dielektrizitätskonstante zu kompensieren.