EUV (extreme ultraviolet)

Extremes Ultraviolett-Licht (EUV) ist extrem kurzwelliges Licht mit einer Wellenlänge von 10 nm bis 100 nm. Diese extrem kurze Wellenlänge wird in der optischen Lithografie, der Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL), für die Herstellung feinster Chipstrukturen eingesetzt.


Während die Halbleiterindustrie mit ultravioletten Lasern mit Wellenlängen von 190 nm bis 250 nm arbeitet, muss zur Herstellung feinerer Chipstrukturen mit höherer Integrationsdichte Licht mit wesentlich kürzeren Wellenlängen eingesetzt werden. Für diese Anwendung ist das extrem kurzwellige UV-Licht prädestiniert. Da EUV-Strahlung von allen Materialien, sogar von Luft absorbiert wird, können die lithografischen Prozesse nur im Vakuum durchgeführt werden.

UV-Licht und Extreme Ultraviolet (EUV) mit kürzester Wellenlänge

UV-Licht und Extreme Ultraviolet (EUV) mit kürzester Wellenlänge

Erzeugt wird das für die lithografischen Belange benötigte EUV-Licht von heißem ionisiertem Plasma, und das bei Temperaturen von ca. 200.000 °C. Dabei wird das Gas von Hochleistungslasern bestrahlt. Während mit den derzeitigen Technologien mit UV-Lasern Strompfadstrukturen von 45 nm hergestellt werden können, können mit der EUV-Strahlung derzeit Strompfade mit Strukturbreiten von unter 10 nm realisiert werden.

Informationen zum Artikel
Deutsch: Extremes Ultraviolett-Licht
Englisch: extreme ultraviolet - EUV
Veröffentlicht: 08.02.2017
Wörter: 171
Tags: #Licht
Links: EUVL (extreme ultraviolet lithography), Integrationsdichte, Laser (light amplification by stimulated emission), Licht, Prozess