DUV-Lithografie

Deep Ultraviolet (DUV) ist kurzwelliges UV- Licht mit einer Wellenlänge von 193 nm oder 248 nm.

DUV-Licht mit diesen Wellenlängen wird in der Fotolithografie für die Chipherstellung eingesetzt, weil damit feine Chipstrukturen erzeugt werden können. Noch feinere Chipstrukturen werden mit noch kürzeren Wellenlängen mit Extreme Ultraviolet Lithography ( EUVL) erzeugt.

Deep Ultraviolet ist eine Hochgeschwindigkeits-Lithografietechnik, die sich für großflächige Masken von diskreten Komponenten eignet. Das für die DUV-Lithografie verwendete ultraviolette Licht kommt aus einem Argon-Fluorid- Laser (ArF) oder von einem Krypton-Fluorid-Laser (KrF). Erstere hat eine Wellenlängen von 193 nm und der zweitgenannte eine von 248 nm. Je kleiner die Wellenlänge, dest höher ist die erzielbare Auflösung. Bei dieser Technik wird die Fotomaske über ein optisches Linsensystem auf den Wafer projiziert. Eine höhere Auflösung kann durch das Einbringen von Wasser zwischen Linse und Wafer erreicht werden, da Wasser einen höheren Brechungsindex gegenüber Luft hat. Diese Technik nennt sich Immersionstechnik.

Informationen zum Artikel
Deutsch: DUV-Lithografie
Englisch: deep ultraviolet - DUV
Veröffentlicht: 31.12.2021
Wörter: 159
Tags: Licht
Links: Ultraviolett, Licht, Wellenlänge, Wellenlänge, Fotolithografie
Übersetzung: EN
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