EUV (extreme ultraviolet )

Extremes Ultraviolett-Licht

Extremes Ultraviolett-Licht (EUV) ist extrem kurzwelliges Licht mit einer Wellenlänge von 11 nm bis 14 nm. Diese extrem kurze Wellenlänge wird in der optischen Lithographie für die Herstellung feinster Chipstrukturen eingesetzt.

UV-Licht und Extreme Ultraviolet (EUV) mit kürzester Wellenlänge

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Während die Halbleiterindustrie derzeit mit ultravioletten Lasern mit Wellenlängen von 200 nm bis 250 nm arbeitet, zeichnet sich ab, dass zur Herstellung feinerer Chipstrukturen mit höherer Integrationsdichte Licht mit wesentlich kürzeren Wellenlängen benutzt werden wird. Für diese Anwendung scheint das extrem kurzwellige UV-Licht prädestiniert. Da EUV-Strahlung von allen Materialien, sogar von Luft absorbiert wird, können die lithografischen Prozesse nur im Vakuum durchgeführt werden.

Während mit den derzeitigen Technologien mit UV-Lasern Leiterbahnstrukturen von 45 nm hergestellt werden können, scheinen mit der EUV-Strahlung Leiterbahnen mit Strukturbreiten von 10 nm bis 20 nm realistisch.