In der konventionellen Technik werden Integrierte Schaltungen (IC) mit lithografischen Verfahren und blauem Licht hergestellt. Bedingt durch die ständig kleiner werdenden Strukturbreiten von unter 100 nm und kleiner, stößt diese Technik in der Mikroelektronik und erst recht in der Nanoelektronik an ihre Grenzen. Der Grund dafür liegt darin, dass die Wellenlängen des sichtbaren Lichts größer sind als die Strukturbreiten.

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UV-Licht und Extreme Ultraviolet (EUV) mit kürzester Wellenlänge

Die EUVL-Technik umgeht diese Grenzen dadurch, dass extremes UV-Licht (EUV) eingesetzt wird. Der Wellenlängenbereich dafür liegt zwischen 20 nm und 10 nm. Mit dieser Technik sollen in den kommenden Jahren Strukturbreiten von etwa 20 nm realisierbar sein.

Andere Techniken zur Verbesserung der Auflösung der Strukturbreiten sind die Resulution Enhancement Technology (RET) und die Optical Proximity Correction (OPC).