MIS-Technik

Die MIS-Technik, Metal Insulator Semiconductor (MIS), basiert auf zwei Metallelektroden und einer Halbleiterschicht. Das ist eine Isolationsschicht aus High-k-Dielektrika wie Siliziumdioxid, Siliziumnitrid oder Titandioxid. Eingesetzt wird die MIS-Technik in Kondensatoren und in Solarzellen.

Was MIS-Kondensatoren betrifft, so handelt es sich um kleine HF-Kondensatoren, die bis in den Gigahertz-Bereich eingesetzt werden können. Sie können in Halbleitertechnik gefertigt und in Kombination mit organischen Halbleitern eingesetzt werden.

MIS-Kondensatoren bestehen aus zwei Elektroden zwischen denen sich ein extrem dünnes Dielektrikum aus positiv dotiertem Silizium befindet. Das Dielektrukum ist ein High-k-Dielektrika mit einer Dielektrizitätskonstanten von bis zu 80. Es ist lediglich 1 nm bis 2 nm dünn.

Die MIS-Technik wird auch in Solarzellen genutzt. Die MIS- Zellen enthalten im Unterschied zu klassischen Solarzellen keinen pn-Übergang. Die Ladungstrennung erfolgt bei dieser Konstellation durch eine elektrische Inversionsschicht. Dadurch wird der Fertigungsprozess vereinfacht.

Informationen zum Artikel
Deutsch: MIS-Technik
Englisch: metal insulator semiconductor - MIS
Veröffentlicht: 06.04.2021
Wörter: 137
Tags: EK-Bauelemente
Links: Management-Informationssystem, High-k-Dielektrikum, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Titandioxid
Übersetzung: EN
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